閉式循環幫浦加壓循環幫浦實驗室溶液溫度控制系統-70~200℃

簡短描述：

騰林儀器有限公司可為您提供玻璃反應釜系統解決方案，包括20L/30L/50L/100L單層或雙層玻璃反應釜以及配套的密封溫控循環機。我們可以根據您的具體需求進行客製化，請告知我們您的專案詳情。我們將為您設計合適的解決方案。玻璃反應釜可具備防爆功能。如果您有圖紙或想法，也歡迎與我們分享。

動態恆溫控制高壓反應器冷熱源的動態恆溫控制，雙層玻璃反應器冷熱源的動態恆溫控制，雙層反應器冷熱源的動態恆溫控制

微通道反應器冷熱源恆溫控制；小型恆溫控制系統、蒸餾系統溫度控制、材料低溫高溫老化試驗

化學冷熱源組合恆溫控制，半導體設備冷卻加熱，真空室冷卻加熱恆溫控制。

溫度範圍：-80℃至300℃, 卓越的性能、高精度和智慧溫控. 多功能警報系統和安全功能，液晶顯示屏，7吋彩色TFT觸控螢幕圖形顯示，採用磁力驅動泵，無軸封洩漏問題。高溫冷卻技術，可實現 300℃ 的直接冷卻，因為只有導熱介質的膨脹室與空氣中的氧氣接觸（膨脹箱溫度在室溫至 60 度之間），才能降低導熱介質氧化和吸收空氣中水分的風險。

溫度範圍：-80℃至300℃溫度範圍-80℃至300℃，性能卓越，精度高，並具備智慧溫控功能。配備多功能警報系統及安全功能，7吋彩色TFT觸控螢幕圖形顯示，採用磁力驅動泵，無軸封洩漏問題。採用高溫冷卻技術，可實現300℃以上的直接冷卻，因為只有膨脹室內的導熱介質與空氣中的氧氣接觸（膨脹箱溫度在室溫至60℃之間），從而有效降低導熱介質氧化和吸收空氣中水分的風險。

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高壓反應器冷熱源動態恆溫控制，雙層玻璃反應器冷熱源動態恆溫控制，雙層反應器冷熱源動態恆溫控制
微通道反應器冷熱源恆溫控制；小型恆溫控制系統、蒸餾系統溫度控制、材料低溫高溫老化試驗
化學冷熱源組合恆溫控制，半導體設備冷卻加熱，真空室冷卻加熱恆溫控制。
溫度範圍-80℃至300℃，性能卓越，精度高，並具備智慧溫控功能。配備多功能警報系統及安全功能，7吋彩色TFT觸控螢幕圖形顯示，採用磁力驅動泵，無軸封洩漏問題。採用高溫冷卻技術，可實現300℃以上的直接冷卻，因為只有膨脹室內的導熱介質與空氣中的氧氣接觸（膨脹箱溫度在室溫至60℃之間），從而有效降低導熱介質氧化和吸收空氣中水分的風險。