HX系列（-5～-40℃）～100℃實驗室以冷藏恆溫水浴加熱冷卻循環器

簡短描述：

實驗室水浴加熱冷卻循環器
溫度範圍：-5℃～-40℃～100℃，水箱容積：8～30公升
溫度解析度：0.01℃，溫度波動：±0.05℃

型號：HX-08~HX-030：0~100℃，8~30公升

型號：HX-0508~HX-0530：-5~100℃，8~30公升

型號：HX-1008~HX-1030：-10~100℃，8~30公升

型號：HX-2008~HX-2030：-20~100℃，8~30公升

型號：HX-3008~HX-3030：-30~100℃，8~30公升

型號：HX-4008~HX-4030：-40~100℃，8~30公升

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產品詳情

產品標籤

描述：

低溫恆溫循環器/低溫恆溫循環器加熱冷卻水浴常用於冷卻半導體製造設備的加熱部分：單晶晶片清洗和重印設備、印刷機、自動支架安裝裝置、噴塗裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶晶片加工裝置、切片機、封裝機、顯影機的溫度管理裝置、曝光裝置、磁場產生部分的加熱裝置等。它在冷卻雷射設備的加熱部分方面也發揮著重要作用：雷射加工設備、熔融雷射機的加熱部分、雷射打標機、產生器、CO2雷射加工機等。

技術參數：

模型	溫度範圍（℃）	解析度（℃）	波動範圍（±℃）	水箱容積（公升）	泵浦流量（公升/分鐘）	功率（千瓦）	尺寸（毫米）
HX-08	0~100	0.01	0.05	8	13	1.3	320370675
HX-010				10		1.6	320370765
HX-015				15		1.7	320370765
HX-020				20		2.1	4004501040
HX-030				30		2.3	450540990
HX-0508	-5~100	0.01	0.05	8	13	1.3	320370675
HX-0510				10		1.6	320370765
HX-0515				15		1.7	320370765
HX-0520				20		2.1	4004501040
HX-0530				30		2.3	450540990
HX-1008	-10~100	0.01	0.05	8	13	1.4	320370675
HX-1010				10		1.6	320370765
HX-1015				15		1.7	320370765
HX-1020				20		2.2	4004501040
HX-1030				30		2.3	450540990
HX-2008	-20~100	0.01	0.05	8	13	1.4	320370765
HX-2010				10		1.7	320370765
HX-2015				15		2.0	320370765
HX-2020				20		2.3	4004501040
HX-2030				30		2.5	450540990
HX-3008	-30~100	0.01	0.05	8	13	1.6	400450940
HX-3010				10		1.7	400450940
HX-3015				15		2.1	400450940
HX-3020				20		2.3	4004501040
HX-3030				30		2.5	450540990
HX-4008	-40~100	0.01	0.05	8	13	1.8	400450940
HX-4010				10		2.0	450540990
HX-4015				15		2.3	450540990
HX-4020				20		2.5	4004501090
HX-4030				30		2.7	4505401090