
描述:
低温恒温循环器/低温恒温循环器加热冷却水浴常用于冷却半导体制造设备的加热部分:单晶晶片清洗和重印设备、印刷机、自动支架安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶晶片加工装置、切片机、封装机、显影机的温度管理装置、曝光装置、磁场产生部分的加热装置等。它在冷却激光设备的加热部分方面也发挥着重要作用:激光加工设备、熔融激光机的加热部分、激光打标机、发生器、CO2激光加工机等。
技术参数:
| 模型 | 温度范围(℃) | 分辨率(℃) | 波动范围(±℃) | 水箱容积(升) | 泵流量(升/分钟) | 功率(千瓦) | 尺寸(毫米) |
| HX-08 | 0~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.3 | 320*370*675 |
| HX-010 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
| HX-015 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
| HX-020 | 20 | 2.1 | 400*450*1040 | ||||
| HX-030 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
| HX-0508 | -5~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.3 | 320*370*675 |
| HX-0510 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
| HX-0515 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
| HX-0520 | 20 | 2.1 | 400*450*1040 | ||||
| HX-0530 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
| HX-1008 | -10~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.4 | 320*370*675 |
| HX-1010 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
| HX-1015 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
| HX-1020 | 20 | 2.2 | 400*450*1040 | ||||
| HX-1030 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
| HX-2008 | -20~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.4 | 320*370*765 |
| HX-2010 | 10 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
| HX-2015 | 15 | 2.0 | 320*370*765 | ||||
| HX-2020 | 20 | 2.3 | 400*450*1040 | ||||
| HX-2030 | 30 | 2.5 | 450*540*990 | ||||
| HX-3008 | -30~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.6 | 400*450*940 |
| HX-3010 | 10 | 1.7 | 400*450*940 | ||||
| HX-3015 | 15 | 2.1 | 400*450*940 | ||||
| HX-3020 | 20 | 2.3 | 400*450*1040 | ||||
| HX-3030 | 30 | 2.5 | 450*540*990 | ||||
| HX-4008 | -40~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.8 | 400*450*940 |
| HX-4010 | 10 | 2.0 | 450*540*990 | ||||
| HX-4015 | 15 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
| HX-4020 | 20 | 2.5 | 400*450*1090 | ||||
| HX-4030 | 30 | 2.7 | 450*540*1090 |
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