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产品

实验室低温恒温循环水浴

简短描述:

  • TLH实验室恒温循环水浴
  • 温度范围:-40℃至100℃,水箱容积:8~30升
  • 温度分辨率:0.01℃,温度波动:±0.05℃

 


  • 型号:TLH-08~TLH-4008:0/-5/-10/-20/-30-40℃~100℃, 8L
  • 型号:TLH-010~TLH-4010:0/-5/-10/-20/-30-40℃~100℃,10升
  • 型号:TLH-015~TLH-4015:0/-5/-10/-20/-30-40℃~100℃,15升
  • 型号:TLH-020~TLH-4020:0/-5/-10/-20/-30-40℃~100℃, 20L
  • 型号:TLH-030~TLH-4030:0/-5/-10/-20/-30-40℃~100℃, 30L
  • 产品详情

    产品标签

    描述:

    低温恒温循环器/低温恒温循环器加热冷却水浴常用于冷却半导体制造设备的加热部分:单晶晶片清洗和重印设备、印刷机、自动支架安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶晶片加工装置、切片机、封装机、显影机的温度管理装置、曝光装置、磁场产生部分的加热装置等。它在冷却激光设备的加热部分方面也发挥着重要作用:激光加工设备、熔融激光机的加热部分、激光打标机、发生器、CO2激光加工机等。

    技术参数:

    模型 温度范围(℃) 解决
    (℃)
    波动
    (±℃)
    体积
    (左)
    泵流量(升/分钟) 升降(米) 方面
    (毫米)
    TLH-08 0~100 0.01 0.05 8 13 3 300*445*670
    TLH-0508 -5~100 300*445*670
    TLH1008 -10~100 300*445*670
    TLH-2008 -20~100 300*445*670
    TLH-3008 -30~100 320*445*720
    TLH-4008 -40~100 320*445*720
    TLH-010 0~100 0.01 0.05 10 13 3 300*445*710
    LH-0510 -5~100 300*445*710
    TLH-1010 -10~100 300*445*710
    TLH-2010 -20~100 300*445*710
    TLH-3010 -30~100 320*445*760
    TLH-4010 -40~100 435*480*920
    TLH-015 0~100 0.01 0.05 15 13 3 370*465*700
    TLH-0515 -5~100 330*465*760
    TLH-1015 -10~100 330*465*760
    TLH-2015 -20~100 330*465*760
    TLH-3015 -30~100 435*480*920
    TLH-4015 -40~100 485*530*930
    TLH-020 0~100 0.01 0.05 20 13 3 425*515*990
    TLH-0520 -5~100 435*480*1020
    TLH-1020 -10~100 435*480*1020
    TLH-2020 -20~100 435*480*1020
    TLH-3020 -30~100 435*480*1020
    TLH-4020 -40~100 485*530*1050
    TLH-030 0~100 0.01 0.05 30 13 3 425*515*910
    TLH-0530 -5~100 485*605*990
    TLH-1030 -10~100 485*605*990
    TLH-2030 -20~100 485*605*990
    TLH-3030 -30~100 485*605*990
    TLH-4030 -40~100 485*605*990

     

     

    TLH水浴

    更详细的图片:

    TLH-2008 实验室水浴
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